サムスン電子は12日、極紫外線(EUV)工程を適用した業界最先端の14ナノDRAMの量産に入ったと明らかにした。
これに先立ち、サムスン電子は昨年3月、業界で初めてEUV工程を適用したDRAM(10ナノ台第1世代)モジュールを顧客企業に供給している。今回は業界で唯一EUVマルチレイヤー工程を適用し、最先端の14ナノDRAM(10ナノ台第4世代)を製作した。EUV露光技術を適用すれば、半導体回路をより精密に具現化することができ、DRAMの性能と収率を向上させることができる。
5つのレイヤーにEUV工程が適用されたサムスン電子の14ナノDRAMは、業界最高のウェハー集積度で、前世代に比べ約20%生産性が向上したとサムスン側は説明する。消費電力も前工程に比べ約20%改善された。
サムスン電子は、今回の新規工程を最新のDDR5DRAMにまず適用する。DDR5は最高7.2ギガビット毎秒の速度で、DDR4に比べ2倍以上速い次世代DRAM規格だ。最近、人工知能(AI)やマシンラーニングなどデータ利用方式が高度化していることを受け、データセンターやスーパーコンピューター、企業向けサーバー市場などで高性能のDDR5に対する需要が高まり続けている。サムスン電子は今後、高容量データ市場の需要に積極的に対応するために、今回の工程で単一チップの最大容量である24ギガバイトDRAMまで量産する計画だ。
一方、市場調査機関オムディア(Omdia)の集計によると、サムスン電子の今年第2四半期(4~6月)のDRAMシェアは43.2%で、トップ3企業(サムスン電子、SKハイニックス半導体、マイクロン)の中で唯一第1四半期に比べシェアが上昇するなど、堅実な1位の座を維持した。